复合材料表面金属薄膜的制备及研究
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【摘要】C/C复合材料具有化学性质稳定、热膨胀系数低以及优良的高温稳定性。因此C/C复合材料是制备低红外发射率薄膜的理想基体材料。本文通过改变参数,探究了薄膜厚度、真空热处理温度对
C/C复合材料具有化学性质稳定、热膨胀系数低以及优良的高温稳定性。因此C/C复合材料是制备低红外发射率薄膜的理想基体材料。本文通过改变参数,探究了薄膜厚度、真空热处理温度对薄膜表面形貌、附着力、物相组成、红外发射率等性能的影响。研究发现:当Ti薄膜厚度为1.06μm,真空热处理温度为1000℃时,经过320℃/5 h氧化处理后制备的Ti/TiO2/Pt薄膜综合性能最好。该工艺制备的Ti/TiO2/Pt表面较为光滑,粗糙度较小,3~5μm和8~14μm波段的红外发射率分别能达到0.061和0.065,附着力为7.344 MPa。
文章来源:《金属热处理》 网址: http://www.jsrclzzs.cn/qikandaodu/2021/0409/428.html